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光学系统价值量提升,2025年光刻机光学系统市场规模将达到60亿美元


发布时间:

2024-03-26

光学系统迭代,EUV镜片较DUV镜片价格差距达到8倍。EUV光学系统由特殊布拉格反射镜组成,制造工艺复杂,价格较高。根据Edmund信息,EUV镜片相较DUV镜片单价较高,同等规格的EUV和DUV镜片的价格差距达到8倍。

光学系统迭代,EUV镜片较DUV镜片价格差距达到8倍。EUV光学系统由特殊布拉格反射镜组成,制造工艺复杂,价格较高。根据Edmund信息,EUV镜片相较DUV镜片单价较高,同等规格的EUV和DUV镜片的价格差距达到8倍。随着先进制程进入3nm时代,EUV光刻机已被头部晶圆厂大范围使用,下一代High NA EUV光刻机有望在2025年推出,EUV光学系统成为趋势或将提升光学系统在光刻机当中的重要程度。

ASML光刻机包含超过10万个零部件,光学系统供应商主要来自德国。根据中国工程院(转引自前瞻产业研究院)信息,一台EUV光刻机包含了超过10万个零部件,全球供应商超过5000家。从光刻机的结构分析来看,美国光源占27%,荷兰腔体和英国真空占32%,日本材料占27%,德国光学系统占14%。

EUV升级带动光刻机市场规模保持较快增长,2022年光刻机市场规模177亿美元。光刻机市场前三大供应商占据了绝大多数市场份额,2017-2022年,三大供应商的光刻机营收合计由80亿美元增长至177亿美元,对应CAGR为17%。展望未来,根据ASML信息,近年来光刻机市场在半导体总市场中的占比持续提升,且未来该趋势有望得以延续,主要考虑到半导体产业近年来快速发展,先进制程扩产带来晶圆厂资本开支爬升,设备支出占比提升有望为光刻机带来持续增量,市场规模保持较快增长。

高端光刻机光学系统价值量高,2025年全球光刻机光学系统市场规模有望达到60亿美元。随着先进制程发展,EUV光刻机在全球范围内出货量持续增加,且下一代High-NA EUV有望在2025年出货,EUV光刻机市场占有率有望保持增长。由于EUV光学系统制造难度大,蔡司半导体事业部独供的EUV光学系统价值量远超其他类型光刻机光学系统,光学系统重要性日益提升。根据我们对于全球光刻机出货量、售价、光学系统价格占比等因素的预测,我们估算全球光刻机光学系统市场规模有望在2025年达到60亿美元,对应2022-2025年CAGR为25%。

1)2025年全球光刻机出货量假设:根据ASML预测,2020-2030年全球半导体市场将保持稳定增长,期间CAGR为9%,半导体行业保持增长将带动晶圆需求增加,其中,先进制程和成熟制程年均复合增速较快,预计分别为12%和6%,晶圆厂需进行扩产以满足需求增长。因此,我们假设用于生产先进制程的EUV光刻机以及辅助生产的ArF光刻机市场需求将快速增加,2025年出货量有望分别达到80台和280台。

2)2025年光刻机售价假设:根据ASML数据,High-NA EUV价格有望达到3.5亿美元;通过分析ASML各类型光刻机2018-2022年售价,除EUV光刻机售价保持小幅增长外,其他型号光刻机价格保持稳定。我们认为全球光刻机行业为寡头垄断市场,价格波动较小,预计2022-2025年EUV光刻机出货量进入小幅增长区间,价格将保持稳定,其他各类型光刻机售价将持续稳定。

3)光学系统占光刻机售价比例假设:蔡司半导体事业部主要生产超精密半导体光学系统,其主要客户为ASML。根据ASML以及蔡司公告,2015-2022年蔡司半导体事业部90%的营收来自ASML,而蔡司半导体事业部为ASML光刻机光学系统唯一供应商。因此,通过对蔡司半导体事业部收入以及ASML各光刻机出货量以及平均售价情况进行分析,我们估算得到各类型光刻机光学系统占光刻机售价比例的假设。


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