新闻中心

光学系统贯穿半导体制造全流程，光刻以及量/检测为半导体设备重要组成

光刻机和半导体量/检测为半导体设备重要组成，设备升级推动技术节点进步。半导体设备拥有十大类设备，光刻机和量/检测设备为半导体制造重要设备。

2024-03-26

半导体制程持续升级，制造工序及投资均大幅增长

半导体制程进步需开发更高集成密度工艺，实现难度持续增大。半个世纪以来，半导体器件性能的增长率遵循著名的摩尔定律，先进半导体制程已从平面结构发展至3D结构，晶体管面积不断缩小，集成电路可容纳的晶体管数目保持约18个月翻倍的规律。

2024-03-26

处理镀膜光学器材的方法

1.将棉擦布折叠，边缘用丙酮浸湿，按顺/逆时针方向仔细清洁反射镜的边缘; 2.适当地晃动装有钼液的瓶子; 3.抽出一张新的棉擦布并折叠，将其边缘用钼液浸湿，或者直接在镜面上滴注若干滴钼液。 4.从反射镜边缘开始，把棉擦布轻轻地在镜面上拖动，连续重复上面的过程数次，应使钼清洗剂慢慢地挥发净。 5.再抽出一张棉擦布，将其表面的钼液擦干。注意擦拭时应来回移动或者做圆周运动。 6.然后将一片折叠的棉布的边缘用丙酮浸湿，从镜的边缘开始轻轻地在镜面上拖动。重复上面的过程直到镜面清洁为止。 7.为了延长反射镜的使用寿命，可以用纯净的空气或者氮气轻轻地吹拭镜面。

2024-03-26